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# 材料研究進捗報告

## スライド 1: タイトルスライド
- **発表者名**: 山田 太郎
- **研究テーマ**: 次世代材料の開発と評価
- **日付**: 2025年4月12日
## スライド 2: 研究目的
- 次世代材料の電気特性と構造的特性を明らかにする
- 環境適応型材料の開発と応用を目指す
- 新規薄膜技術の実用化への寄与
## スライド 3: 研究手法
- 超高真空スパッタリング装置を使用（基準圧力 10^-7 Pa）
- ガラス基板上に多結晶薄膜を作製
- 成膜条件: 窒素分圧比を33%から100%に変化
- 評価方法:
  - キャリア濃度測定
  - 薄膜構造解析
## スライド 4: 主な結果
- **キャリア濃度の変化**
  - 窒素分圧比が増加するにつれキャリア濃度が単調に減少
  - 100%窒素分圧比でキャリア濃度が 6.8×10^16 cm^-3 を達成
- **薄膜の酸化防止**
  - 緻密なキャップ層により酸化を抑制

## スライド 5: 考察
- キャリア濃度の低下の原因:
  - 高窒素分圧比での結晶構造の変化
  - 不純物の抑制効果
- 酸化防止策の有効性:
  - キャップ層により大気との反応が抑制
  - 実用化に向けた安定性が向上
## スライド 6: 今後の展望
- キャリア濃度調整の最適化
- 他の基板への適用性評価
- 実用規模での薄膜作製プロセスの開発

## スライド 7: 質疑応答
- ご質問がありましたらお気軽にどうぞ！